利用射频磁控溅射方法，选取溅射时间为15，25，30和45min，在蓝宝石衬底上沉积了V2O5薄膜。
研究了其他实验参量不变，溅射时间不同对薄膜结构、薄膜厚度、表面形貌、电学及光学性能的影响。
实验结果表明，制备出的薄膜为单一组分的V2O5薄膜，其在（001）面有明显的择优取向。
随着溅身时间的增加，结晶性能逐渐变强，晶粒尺寸也逐渐变大，而表面粗糙度值会逐渐降低;在晶体结构完整的基础上，随着溅射时间的增加，相变温度和经历的温度范围会逐渐增加，电学突变性能会降低。
测试了薄膜在中红外波段的高低温透过率，结果显示：当膜厚为350nm，波长为5μm时，薄膜的透过率从25℃时的81%变为300℃的7%，变化幅度可达74%;所有薄膜相变前后透过率的比值均为9~13，表现出了非常突出的光学开关特性。
为溶剂、以V2O5/SiO2为催化剂、8
在以为溶剂、以V2O5/SiO2为催化剂、8-羟基喹啉为助剂的催化条件下，以水溶液为氧化剂，对催化氧化制备的催化反应体系进行了研究。
考察了V2O5的负载量以及8-羟基喹啉的用量及反应温度对氧化反应的影响，发现适当的负载量有利于V2O5催化性能的提高。
结果表明，当V2O5负载量(质量分数)为5%、催化剂的量和8-羟基喹啉的质量相等、反应温度为30℃时的转化率和的选择性较好。
这源于V2O5高度分散于SiO2载体上，五氧化二钒价格，增大了活性组分V2O5的表面积，从而增加了其活性中心的个数及活性组分与反应物的接触面积，五氧化二钒生产厂家，从而增加了催化活性。
使用熔融制样-X射线荧光光谱法(XRF)，以四硼酸锂做熔剂，五氧化二钒，样品与熔剂比为1:10熔融制样。
分析矿石中0.006%~98%的五氧化二钒含量。
目氧化二钒标准物质较少，不能满足各含量段矿石类样品的准确定量要求。
本方法通过加入高纯V2O5制备人工标准样品和现有五氧化二钒标准物质相结合绘制工作曲线，解决了现有标准物质较少的问题。
建立了XRF测定矿石中V2O5的方法，试验显示结果精密度和准确度完全满足常规分析要求。
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